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2013-1014

白光LED专利进攻与运营研讨

本文选自《半导体照明》杂志2013年第8期(总第42期) 转载请标注:中国半导体照明网       

  LED专利范畴环球专利超越12万件,中心专利次要在外洋企业手中,中国企业在技能和专利方面落伍于外洋企业。以LED前端为例,现在国际已受权的约470件内涵专利中有超越350件是外洋企业所请求,国际企业请求受权量仅有110件左右,且有局部为适用新型专利。国际已受权的芯片专利中约有7成掌握在外洋企业手中,国际企业仅占3成。专利技能积聚缺乏使得国际LED行业面对怎样停止专利进攻、躲避专利危害等一系列题目。

        白光LED因其高效节能、绿色环保等特点而惹起照明范畴第三次反动,现在LED范畴构成了以五大厂抢先,韩国、中国台湾企业紧随厥后,中国企业聚集财产中卑鄙的格式。白光通常的完成方法可分为单晶型和多晶型,不管何种方法,芯片都必不行少,因而LED芯片的知识产权十分紧张。同时,由于现在主流的白光完成方案多接纳芯片加荧光粉方法完成,以是白光LED知识产权次要会合在芯片和荧光粉两个方面。

        一、白光LED芯片的知识产权概略

        制造一个白光LED芯片次要包罗衬底、缓冲层、内涵(功用层尤其是发光区)、芯片制造、电极等。主流衬底资料为蓝宝石和碳化硅,蓝宝石衬底技能由日亚化学开辟,碳化硅衬底技能由科锐公司开辟。日亚化学的蓝宝石衬底专利有JP2632239(92.06)、JP2795294(93.04)等,这些专利根本只在日本请求专利,未在其他国度和地域停止同族请求。从日亚的蓝宝石衬底专利结构来看,在日本以外的地域运用蓝宝石做衬蓝本身并不组成侵权。科锐公司碳化硅衬底技能的中心US5631190等在中国有同族专利受权,因而运用碳化硅衬底侵权危害极大。现在,硅衬底技能失掉开展受各大企业的注重,国际在该技能上有肯定专利积聚,该技能的开展对国际企业躲避知识产权危害有肯定意义。

        缓冲层资料普通有AlN缓冲层、GaN缓冲层、SiNx缓冲层,与之对应的中心专利辨别为JP2000124499、JP7312350、EP1111663,前两种资料只在日本有专利请求,后一种在日、美、欧、韩,以及中国台湾都有专利维护,但在中国大陆没有同族专利。别的如多缓冲层技能在美、欧、加、澳有专利维护,在中国也没有同族专利;超晶格阻断位错技能在美、日有专利维护,在中国没有同族专利;悬挂内涵技能在美、欧、日有专利维护,中国没有同族专利。值得留意的是,横向内涵过生长技能在中国有同族专利受权,因而,在缓冲层资料方面,中国市场运用以上资料做缓冲层专利危害不大。次要缓冲层技能都没在中国请求专利,因而该技能范畴知识产权危害不大。

        内涵功用层中发光区中心专利中除日亚化学的方形单量子阱EP1189289,科锐公司的接纳非掺杂的载流子限定层在中国有同族专利受权之外,别的如平凡双异质结量子阱、方形大批子阱、梯形量子阱、三角量子阱以及非对称量子阱、活性层与p型层之间参加缓冲层、接纳大批子垒(MQB)做载流子限定层等专利均未在中国请求同族专利。在内涵方面,国际企业碰面临肯定知识产权题目,但因替换方案较多以是题目不大,只需留意躲避该当可以防止这方面的题目。

        芯片制造是国际企业面对知识产权题目最严峻的一个范畴,国际LED中心制造专利中科锐公司的US5631190等及欧司朗公司的US2002017652在中国均有同族专利,运用这些专利技能危害极大。别的如US6538302等中心专利在中国没有同族请求,运用这些专利技能专利危害不大。别的没有在中国请求同族的中心专利另有WO03026029、US2003015708等。因而,在芯片制造范畴,国际LED芯片制造企业碰面临较大的专利危害,国际企业该当做好该范畴的专利预警剖析,并做相应的躲避设计,防止专利侵权。

        在电极方面,日本企业研讨较早获得专利较多,日亚化学的中心专利EP0622858在中国有同族专利请求,该专利的同族在中国构成了一个由9件分案专利组成的巨大同族群,因而在电极和欧姆打仗资料方面日亚化学构成了一个十分无效的维护圈,国际企业稍不留意就会对其组成侵权。日本另一家在该方面有较多专利技能的企业丰田分解的专利群JP10135515等及Lumileds的US6526082在中国均未有同族,因而国际企业应充沛自创以上在中国没有同族专利的技能,构成无效的躲避。在电极方面有肯定专利危害,但只需留意躲避,则专利题目不大。

        国际LED芯片知识产权危害会合在芯片制造方面,别的如衬底、缓冲层、内涵、电极等方面因国际中心专利未在中国请求同族,或有替换专利未在中国请求同族等缘由专利危害绝对较小。

        二、白光LED荧光粉的知识产权概略

        总体而言,白光LED荧光粉专利技能次要掌握在日亚、丰田分解等一些外洋次要企业手中。现在国际只要多数荧光粉企业若有研稀土、江苏博多数几家能提供具有专利维护的荧光粉。

        晚期盛行的荧光粉如YAG粉和LuAG粉的上位创造专利为日即日亚化学一切,专利号:US5998925,优先权日:1996年7月29日。TAG粉的专利为德国欧司朗一切,专利号:US6669866,优先权日:1999年7月23日。以上荧光粉专利官僚到2017年才到期。

        硅酸盐荧光粉等也会有专利题目,正硅酸盐荧光粉最早的专利是通用电气于1998年11月30日请求美国专利US6429583。随后,德国欧司朗请求了SrBaSiO4:Eu2+专利,美国专利号:US7064480,优先权日为2000年7月28日。接着,德国布赖通根荧光灯厂,日本丰田分解和奥天时锐高请求了含Sr、Ba和Ca的正硅酸盐荧光粉专利,美国专利号:US6809347,优先权日为2000年12月28日。Sr3SiO5:Eu2+的专利最早见于韩国化工研讨院请求的专利,美国专利号:US7045826,优先权日为2003年3月28日,以上浩繁硅酸盐荧光粉要到2018年之后专利权才连续到期。现在,几家次要的硅酸盐荧光粉企业已组建B.O.S.E专利家属。

        氮化物、氮氧化物荧光粉是现在研讨热门,最早的氮化物荧光粉专利是德国欧司朗于1999年11月30日请求的欧洲专利EP1104799。随后,日本国立资料迷信研讨所请求了Sialon荧光粉专利,美国专利号为:US6632379,优先权日为2001年6月7日。接着,德国欧司朗在2002年9月24日又请求了MSi2O2N2:Eu2+(M=Ca,Sr,Ba)专利,专利号为:EP1413618。2004年2月27日,日本同和矿业(DOWA)请求了CaAlSiN3:Eu2+荧光粉的专利,专利号为:JP2005239985,国际企业在氮化物、氮氧化物荧光粉的研讨上落伍于外洋企业。

        三、白光LED知识产权题目应对发起

        国际白光LED使用企业要防止专利危害有几种选择:一是购置有专利维护的白光LED;二是购置非品牌白光LED后,别的取得专利受权;三是白光LED使用企业加大技能研发,获得白光LED专利受权。在白光LED范畴专利,现在中心专利大多掌握在外洋企业手中,但有相称局部中心专利未在中国提出请求,值得市场在境内的企业仔细研讨。国际白光LED企业的专利有肯定根底,需求经过受权和引入新的专利才干到达更高的适用代价。因而,需求积极停止专利运营,公道的标准市场次序,才干基本上维持整个白光LED波动有序,安康开展。为此,我们提出以下发起:

        1.对行业平安而言,发起相干主管部分或财产同盟经过专项或任务布置,一方面树立专利主题数据库,监控国际外LED专利执法形态,另一方面委托第三方专业知识产权机构评价,展开国际外LED专利运营可行性剖析,引导工程中央和企业开展技能研发。

        2.对国际白光LED财产的品牌企业而言,尽快停止专利结构剖析,构成专利组合,减小危害是燃眉之急。除了选择和中小企业一样夺取公道的专利答应条件之外,还可以在专业的专利运营机构的指点下以自有的劣势专利为根底经过专利答应,从而构建更具代价的专利池组合。这种专利池组合不只可以对本身构成维护,还可以经过对外受权或穿插受权取得经济收益或取得急需的技能受权。

        3.关于国际级白光LED企业而言,其拥有浩繁中心专利假如对外受权的话,由于中国的LED企业范围偏小、数目浩繁,一家家去和各企业去停止受权会谈在本钱上是不行想象的,最好的方法是寻觅一家专业的专利运营企业,将相干受权和终年办理事件委托给相干企业完成。


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